Plasma Ätzmaschinn Struktur

ICP Ausrüstung besteet haaptsächlech aus véier Deeler: Pre-Vakuumkammer, Ätzkammer, Gasversuergungssystem a Vakuumsystem.

(1) Pre-Vakuumkammer

D'Funktioun vun der Pre-Vakuumkammer ass fir sécherzestellen datt d'Ätskammer op engem festgeluegte Vakuumniveau gehale gëtt, net vun der externer Ëmwelt beaflosst gëtt (wéi Stëbs, Waasserdamp), a geféierlech Gase aus dem proppere Raum isoléiert. Et besteet aus engem Cover, engem Manipulator, engem Transmissioun Mechanismus, eng Isolatioun Dier, etc.

(2) Ätzkammer

D'Ätzkammer ass d'Kärstruktur vun der ICP Ätsausrüstung. Et huet en direkten Impakt op d'Ätstquote, d'Vertikalitéit vun der Ätzen, an d'Rauheet. D'Haaptkomponente vun der Ätzkammer sinn: iewescht Elektrode, ICP Radiofrequenz Eenheet, RF Radio Frequenz Eenheet, ënnescht Elektroden System, Temperaturkontrollsystem, etc.

(3) Gasversuergungssystem

De Gasversuergungssystem ass fir verschidde Ätsgasen an d'Ätzkammer ze liwweren, a präzis de Gasflossrate a Flux duerch den Drockkontroller (PC) a Massestroumkontroller (MFC) ze kontrolléieren. De Gasversuergungssystem besteet aus enger Gasquellefläsch, enger Gasliwwerungspipeline, e Kontrollsystem, enger Vermëschung, asw.

(4) Vakuum System
Et ginn zwee Vakuumsystemer, ee fir d'Pre-Vakuumkammer an déi aner fir d'Ätzkammer. D'Pre-Vakuumkammer gëtt vun enger mechanescher Pompel evakuéiert. Nëmme wann de Vakuumniveau an der Pre-Vakuumkammer de festgeluegte Wäert erreecht, kann d'Isolatiounsdier opgemaach ginn fir de Wafer ze transferéieren. De Vakuum an der Ätzkammer gëtt vun enger mechanescher Pompel an enger molekulare Pompel geliwwert. D'Gasen, déi duerch d'Reaktioun an der Ätzkammer generéiert ginn, ginn och vum Vakuumsystem evakuéiert.